全自动曝光机

产品型号：AEP65-1000-300II

产品说明：

全自动曝光机支援3寸、4寸、5寸、6寸晶圆，300-CC。

此设备为光罩对准曝光机，用于半导体光刻制程中。

功能：使用UV平行光源，将光罩上的图案以1:1的比例复制到晶圆表面的光阻膜上。
 

■ 设备规格：曝光光源、光罩线宽复制能力：I线正性光阻，厚度1um，硬接触条件下达到1um2um，近接条件下达到3um5um。

■ 对准成像系统：具备自动对准能力，对准键具有清晰的几何形状识别能力，误差范围在5um内。

■ 生产能力：在对准过程中，曝光时间为3秒，机械产能为每小时250至300片（不考虑材料变异）。

若无对准仅曝光，曝光时间为3秒，机械产能为每小时280至360片（不考虑材料变异及卸料）。

■ 外部尺寸与重量：宽1900 x 深1600 x 高2400毫米

■ 重量： 约1900公斤