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全自动单面曝光机

Fully automatic single-sided exposure machine

产品型号:Auto Exposurer

 

产品说明:

全自动曝光机支援3寸、4寸、5寸、6寸晶圆,300-CC。

此设备为光罩对准曝光机,适用于半导体光刻制程。

 

功能:使用UV平行光源,将光罩上的图案以1:1的比例复制到晶圆表面的光阻膜上。

 

■ 设备规格:曝光光源,光罩线宽复制能力,I线正性光阻厚度1um,硬接触条件下可达1um2um,近接条件下可达3um5um。

■ 对准成像系统:具备自动对准能力,对准键具备清晰几何形状,识别精度可达5um内。

■ 生产能力:在对准过程中,曝光时间为3秒,机械产能为每小时250至300片(不考虑材料变异)。

若无对准仅曝光,曝光时间为3秒,机械产能为每小时280至360片(不考虑材料变异及卸料)。

■ 外部尺寸与重量:宽1900 x 深1600 x 高2400毫米

■ 重量:约1900公斤