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手动双面曝光机

Manual double-sided exposure machine

产品型号:TT06D

 

产品说明:

全自动单面曝光机
Auto Exposurer 3"、4"、5"、6" 300-CC
此设备为用于半导体光刻制程中的光罩对准曝光机。

 

功能:使用紫外线平行光源,将光罩上的图案以1:1比例复制到晶圆表面的光阻膜上。最佳真空接触曝光图案分辨率可达1微米以内(正性光阻厚度1微米)。

 

■ 设备规格:曝光光源、光罩线宽复制能力,I-line 正性光阻厚度1微米,硬接触1微米2微米,近接3微米5微米。

■ 对准成像系统:自动对准能力,能在5微米内识别出具有清晰几何形状的对准标记。

■ 生产能力:对准流程,曝光时间为3秒,机械产能为每小时250至300片(不考虑材料变异性)。

无对准,仅曝光流程,曝光时间为3秒,机械产能为每小时280至360片(不考虑材料变异性和卸料过程)。

■ 外部尺寸重量:宽:1900mm x 深:1600mm x 高:2400mm

■ 重量:约1900公斤