单面曝光吸盘

产品型号：LI06B

产品说明：

全自动曝光机3"、4"、5"、6" 300-CC
此设备为用于半导体光刻制程中的光罩对准曝光机。

功能：使用紫外线平行光源，将光罩上的图案以1:1比例复制到晶圆表面的光阻膜上。3点滚珠机构，滚动操作可轻松滑动并对准光罩。

■ 设备规格：曝光光源、光罩线宽复制能力，I-line 正性光阻厚度1微米，硬接触1微米2微米，近接3微米5微米。

■ 对准成像系统：自动对准能力，能在5微米内识别出具有清晰几何形状的对准标记。

■ 生产能力：对准流程，曝光时间为3秒，机械产能为每小时250至300片（不考虑材料变异性）。

无对准，仅曝光流程，曝光时间为3秒，机械产能为每小时280至360片（不考虑材料变异性和卸料过程）。

■ 外部尺寸重量：宽：1900mm x 深：1600mm x 高：2400mm

■ 重量：约1900公斤