单面曝光吸盘
Single-sided exposure suction cup
产品型号:LI06B
产品说明:
全自动曝光机3"、4"、5"、6" 300-CC
此设备为用于半导体光刻制程中的光罩对准曝光机。
功能:使用紫外线平行光源,将光罩上的图案以1:1比例复制到晶圆表面的光阻膜上。3点滚珠机构,滚动操作可轻松滑动并对准光罩。
■ 设备规格:曝光光源、光罩线宽复制能力,I-line 正性光阻厚度1微米,硬接触1微米2微米,近接3微米5微米。
■ 对准成像系统:自动对准能力,能在5微米内识别出具有清晰几何形状的对准标记。
■ 生产能力:对准流程,曝光时间为3秒,机械产能为每小时250至300片(不考虑材料变异性)。
无对准,仅曝光流程,曝光时间为3秒,机械产能为每小时280至360片(不考虑材料变异性和卸料过程)。
■ 外部尺寸重量:宽:1900mm x 深:1600mm x 高:2400mm
■ 重量:约1900公斤